本文研究了退火处理对Al-Cu-Fe磁控共溅射薄膜结构和性能的影响。通过在不同温度下进行退火，分析了薄膜的晶粒长大、相变及磁学性能的变化。结果表明，退火能有效改善薄膜的微观结构，提高其磁性能。该研究为优化Al-Cu-Fe薄膜的制备工艺提供了理论依据。
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