绝缘体上硅射频LDMOS的大信号模型研究 - 第21届电路与系统学术年会.pdf

28 0
2026-1-12 17:33 | 查看全部 阅读模式

会议论文《绝缘体上硅射频LDMOS的大信号模型研究》发表于第21届电路与系统学术年会,旨在探讨基于绝缘体上硅(SOI)技术的射频LDMOS器件的大信号行为。该研究通过建立精确的模型,分析了器件在高频大功率下的电特性,为射频集成电路的设计提供了理论支持和实用参考。

文档为pdf格式,0.18MB,总共4页。

绝缘体上硅射频LDMOS的大信号模型研究 - 第21届电路与系统学术年会
文件大小:
184.32 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1