离子源辅助中频磁控溅射制备AlN薄膜 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

会议论文《离子源辅助中频磁控溅射制备AlN薄膜》介绍了利用离子源辅助中频磁控溅射技术制备氮化铝（AlN）薄膜的方法。该研究旨在提高AlN薄膜的结晶质量和性能，通过引入离子源增强沉积过程，改善薄膜的致密性和均匀性。论文对实验参数、结构表征及性能测试进行了详细分析，为高性能AlN薄膜的制备提供了新思路。

文档为pdf格式，0.68MB，总共5页。

离子源辅助中频磁控溅射制备AlN薄膜 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

文件大小:

696.32 KB

高速下载