会议论文《基于0.5μm CMOS工艺的高压器件研究》发表于中国电子学会第十四届青年学术年会。该文探讨了在0.5μm CMOS工艺下设计与实现高压器件的技术路径，分析了器件结构对耐压性能的影响，提出了优化方案以提升器件可靠性与性能。研究对推动高性能集成电路发展具有重要意义。
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