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光敏CTP制版曝光性能的研究 - 第十二届全国包装工程学术会议.pdf

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2026-1-12 09:41 | 查看全部阅读模式

会议论文《光敏CTP制版曝光性能的研究》发表于第十二届全国包装工程学术会议，探讨了光敏CTP技术在制版过程中的曝光性能。文章分析了不同曝光参数对印刷质量的影响，提出了优化曝光工艺的建议，为提高印刷效率和图像精度提供了理论依据和技术支持。

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光敏, 制版, 十二届, 性能, 曝光

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