PECVD法沉积类金刚石膜的研究 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

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2026-1-12 07:55 | 查看全部阅读模式

会议论文《PECVD法沉积类金刚石膜的研究》探讨了等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术在制备类金刚石膜中的应用。文章分析了工艺参数对薄膜性能的影响，如沉积速率、硬度及表面质量等。研究结果表明，通过优化工艺条件可获得高质量的类金刚石膜，具有优异的耐磨性和绝缘性，适用于微电子和机械领域。

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