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CaF2-AlF3-SiO2系低温共烧氧氟玻璃陶瓷性能 - 第十五届全国高技术陶瓷学术年会.pdf

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会议论文《CaF2-AlF3-SiO2系低温共烧氧氟玻璃陶瓷性能》探讨了该体系材料的制备与性能。研究分析了其在低温下的烧结特性及物理化学性能，为光学和电子器件提供新材料选择。论文对成分优化和应用前景进行了深入讨论。

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CaF2-AlF3-SiO2系低温共烧氧氟玻璃陶瓷性能 - 第十五届全国高技术陶瓷学术年会.pdf

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陶瓷, 低温, 高技术, 十五届, 性能

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