会议论文《高真空镀膜设备真空系统设计》发表于中国核学会2009年学术年会，主要探讨了高真空镀膜设备中真空系统的设计原理与关键技术。文章分析了真空系统的结构组成、抽气方案及性能优化方法，为提高镀膜质量与效率提供了理论依据和技术支持。该研究在半导体、光学等领域具有重要应用价值，对推动高真空技术发展具有积极作用。
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