低温直流反应磁控溅射制备ZnO_Al(ZAO)薄膜及表征 - 第十二届全国高校金相与显微分析学术年会.pdf

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2026-1-11 13:03 | 查看全部 阅读模式

会议论文《低温直流反应磁控溅射制备ZnO_Al(ZAO)薄膜及表征》介绍了采用低温直流反应磁控溅射技术制备ZnO-Al(ZAO)薄膜的方法。通过调控工艺参数,研究了薄膜的结构与性能,分析了其在透明导电领域的应用潜力。该研究对优化薄膜制备工艺、提升材料性能具有重要意义。

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低温直流反应磁控溅射制备ZnO_Al(ZAO)薄膜及表征 - 第十二届全国高校金相与显微分析学术年会
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