会议论文《含羧基超支化聚(胺-酯)丙烯酸酯光致抗蚀剂的合成》介绍了新型光致抗蚀剂的制备与性能研究。该材料以含羧基的超支化聚(胺-酯)丙烯酸酯为基础，通过优化分子结构提高了其光敏性和成膜性能。研究结果表明，该抗蚀剂在光刻工艺中表现出良好的分辨率和附着力，具有广阔的应用前景。
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