会议论文《偏压对反应磁控溅射沉积TiN功能装饰薄膜的影响》探讨了在反应磁控溅射过程中，偏压参数对TiN薄膜性能的影响。研究结果表明，适当调整偏压可以改善薄膜的致密性、硬度和表面质量，从而提升其功能性和装饰性。该论文为优化TiN薄膜的制备工艺提供了理论依据和技术参考，具有重要的应用价值。
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