会议论文《两平晶方法平面绝对检验技术》介绍了利用两个平面平行晶片进行平面度绝对测量的技术。该方法通过干涉原理，提高了平面度检测的精度和可靠性，适用于高精度光学元件的检测。文章详细阐述了实验设计、数据处理及结果分析，为相关领域的研究提供了理论依据和技术支持。
文档为pdf格式，0.47MB，总共5页。
举报
