会议论文《焦磷酸盐镀铜层表面镀瘤的去除研究》探讨了在焦磷酸盐镀铜工艺中，如何有效去除镀层表面的镀瘤问题。该研究针对镀瘤产生的原因进行了分析，并提出相应的去除方法，以提高镀层质量与均匀性。论文为中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会提供了重要的技术参考，对提升电镀工艺水平具有实际意义。
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