会议论文《一种对工艺不敏感的自校正带隙基准技术》提出了一种改进的带隙基准电路设计方法，旨在提高电路在不同工艺条件下的稳定性与精度。该技术通过引入自校正机制，有效补偿了由于制造工艺变化带来的参数偏差，从而实现了更可靠的电压基准输出。该研究为电子薄膜与集成器件领域提供了重要的理论支持和技术参考，具有广泛的应用前景。
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