会议论文《In-situ Monitoring of MOCVD of LEDs on Dry Etched Patterned Sapphire Substrates in a Close Coupled Showerhead Reactor》介绍了在密耦合喷淋头反应器中对干法刻蚀图案蓝宝石衬底上LED外延生长的原位监测技术。该研究通过实时监测手段优化了MOCVD工艺,提高了LED的性能和均匀性,为高效、高质量的LED制造提供了新思路。
文档为pdf格式,0.4MB,总共1页。
举报