会议论文《Characteristics of Ga_ZnO films by RF magnetron sputtering in Ar+H2 ambient at room temperature》介绍了在室温下通过射频磁控溅射法制备Ga掺杂ZnO薄膜的研究。文章探讨了在氩气与氢气混合气氛中制备薄膜的工艺参数及其对薄膜性能的影响，分析了薄膜的结构、光学和电学特性，为高性能透明导电薄膜的应用提供了理论依据。
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