会议论文《高分辨率i-线正性光致抗蚀剂》介绍了新型光致抗蚀剂的研发成果，重点探讨其在高分辨率光刻中的应用。该研究针对半导体制造需求，优化了材料配方与工艺参数，提升了光刻精度与稳定性。论文展示了实验数据与性能分析，为后续光刻技术发展提供了理论支持与实践参考。
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