基于MCM-D工艺的叠层芯片互连工艺研究 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

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2026-1-10 03:53 | 查看全部 阅读模式

会议论文《基于MCM-D工艺的叠层芯片互连工艺研究》探讨了多芯片模块(MCM)中叠层芯片的互连技术。该研究针对MCM-D工艺,分析了不同互连方式对芯片性能的影响,提出了优化方案以提高可靠性与集成度。文章通过实验验证了所采用方法的有效性,为高性能电子系统提供了技术支持。

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基于MCM-D工艺的叠层芯片互连工艺研究 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
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