中子辐照后CMOS工艺静态随机存储器瞬时电离射翻转效应实验研究 - 北京核学会第十届(2014)核应用技术学术交流会.pdf

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2026-1-10 02:19 | 查看全部 阅读模式

会议论文《中子辐照后CMOS工艺静态随机存储器瞬时电离射翻转效应实验研究》探讨了中子辐照对CMOS工艺静态随机存储器(SRAM)造成瞬时电离射翻转效应的实验分析。研究通过实验手段评估了不同中子通量下SRAM的抗辐射性能,揭示了电离辐射对器件功能的影响机制,为提高电子设备在辐射环境下的可靠性提供了理论依据和技术支持。

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中子辐照后CMOS工艺静态随机存储器瞬时电离射翻转效应实验研究 - 北京核学会第十届(2014)核应用技术学术交流会
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