论文《HfO2薄膜厚度参数的XRR表征》介绍了利用X射线反射技术(XRR)对HfO2薄膜厚度进行精确测量的方法。该研究由综合电子系统技术教育部重点实验室暨四川省高密度集成器件工程技术研究中心在2012学术年会上发表,旨在提高薄膜厚度测量的准确性与可靠性,为半导体器件制造提供技术支持。
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