论文《快速退火法制备β-FeSi2薄膜的研究》介绍了通过快速退火技术制备β-FeSi2薄膜的方法。研究探讨了不同退火条件对薄膜结构和性能的影响,旨在提高薄膜质量与光电特性。该工作为β-FeSi2在光电子器件中的应用提供了理论依据和技术支持。
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