单晶硅表面制备Co-P化学镀层及其性能研究 - 中国工程院化工、冶金与材料工程学部第九届学术会议.pdf

本文介绍了在单晶硅表面制备Co-P化学镀层的方法及其性能研究。通过化学镀技术，在单晶硅基体上获得均匀的Co-P合金镀层，提高了材料的耐磨性和耐腐蚀性。研究结果表明，该镀层具有良好的结合力和稳定性，为单晶硅在电子器件中的应用提供了新的改性途径。

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2025-12-14 16:03 上传 单晶硅表面制备Co-P化学镀层及其性能研究 - 中国工程院化工、冶金与材料工程学部第九届学术会议.pdf

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