该论文研究了退火处理对非晶态碲镉汞薄膜稳定态光电导性能的影响。通过不同温度下的退火实验，分析了退火工艺对材料结构和光电导特性的作用。结果表明，适当退火可以改善薄膜的结构稳定性，提高其光电导性能。研究为优化非晶态碲镉汞薄膜的制备工艺提供了理论依据和技术支持。
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