玻璃基底和表面粗糙度对氮化硅薄膜椭偏测量的影响 - 中国计量测试学会光辐射计量学术研讨会.pdf

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2025-12-14 08:11 | 查看全部 阅读模式

本文研究了玻璃基底及其表面粗糙度对氮化硅薄膜椭偏测量结果的影响。通过实验分析,发现基底材料的光学性质和表面粗糙度会显著改变椭偏参数的测量值。研究结果表明,选择合适的基底和优化表面处理工艺对于提高椭偏测量精度具有重要意义,为薄膜厚度和折射率的准确测定提供了理论依据和技术支持。

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玻璃基底和表面粗糙度对氮化硅薄膜椭偏测量的影响 - 中国计量测试学会光辐射计量学术研讨会
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