论文《双辉光制备W_Cu薄膜及其性能的研究》介绍了采用双辉光放电技术制备钨铜（W_Cu）薄膜的方法。通过调控工艺参数，研究了薄膜的微观结构与性能。结果表明，该方法可有效制备出均匀、致密的W_Cu薄膜，具有良好的热稳定性与导电性能。该研究为高性能复合材料的制备提供了新思路，对电子与航空航天领域具有重要应用价值。
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