双面擦片在抛光片最终清洗上的应用 - 2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会.pdf

论文《双面擦片在抛光片最终清洗上的应用》探讨了双面擦片技术在半导体制造中抛光片清洗过程中的应用。文章分析了该技术如何提高清洗效率和质量，减少微粒污染，对提升芯片良率具有重要意义。研究结果为半导体器件的清洗工艺提供了新的思路和技术支持。

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2025-12-14 02:44 上传 双面擦片在抛光片最终清洗上的应用 - 2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会.pdf

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