一种适用于高压双极工艺的单晶深槽介质隔离技术研究 - 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

本文针对高压双极工艺中的介质隔离问题，提出一种单晶深槽介质隔离技术。通过优化深槽刻蚀和填充工艺，提高了器件的隔离性能与可靠性。该技术有效解决了传统隔离方法在高压环境下存在的漏电流大、击穿电压低等问题，为高性能双极型晶体管的设计与制造提供了新思路。

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2025-12-14 01:03 上传 一种适用于高压双极工艺的单晶深槽介质隔离技术研究 - 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

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