一、基本信息
文档名称:T_CI 512—2024_硅基厚金属膜电镀工艺技术规范
文档格式:pdf格式
文档大小:3.83MB
总页数:80页
二、简介
《T_CI 512—2024 硅基厚金属膜电镀工艺技术规范》是一项针对硅基材料上厚金属膜电镀工艺的技术标准。该规范明确了电镀工艺流程、材料要求、设备配置及质量控制指标,旨在提升硅基器件的可靠性与一致性。适用于半导体制造、微电子封装等领域,对提高产品性能和良品率具有重要意义。规范内容涵盖前处理、电镀参数、后处理及检测方法,为行业提供了统一的技术依据和操作指南。
三、预览
- 文件大小:
- 3.83 MB
- 下载次数:
- 60
- T_CI 512—2024_硅基厚金属膜电镀工艺技术规范.pdf
-
高速下载
|