T_CI 512—2024_硅基厚金属膜电镀工艺技术规范.pdf

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2025-9-15 10:10 阅读模式

一、基本信息

文档名称:T_CI 512—2024_硅基厚金属膜电镀工艺技术规范

文档格式:pdf格式

文档大小:3.83MB

总页数:80页


二、简介

《T_CI 512—2024 硅基厚金属膜电镀工艺技术规范》是一项针对硅基材料上厚金属膜电镀工艺的技术标准。该规范明确了电镀工艺流程、材料要求、设备配置及质量控制指标,旨在提升硅基器件的可靠性与一致性。适用于半导体制造、微电子封装等领域,对提高产品性能和良品率具有重要意义。规范内容涵盖前处理、电镀参数、后处理及检测方法,为行业提供了统一的技术依据和操作指南。


三、预览

T_CI 512—2024_硅基厚金属膜电镀工艺技术规范
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