文档名：双面抛光材料去除量均匀性的研究及优化
行星式双面抛光运动过程中的材料去除量均匀性对光学材料的表面加工质量有重要影响.通过分析工件双面抛光的运动过程,建立了工件上任一点相对于抛光盘的瞬时速度方程,提出一种基于计算机仿真的材料去除量均匀性定量表征方法,并优化了相关运动参数值.研究结果表明,当太阳轮半径与齿圈半径之比大于等于0.2,齿圈与太阳轮转速比m、抛光盘与太阳轮转速比n符合方程:n=2.6848m-0.3333时,抛光过程的材料去除量均匀性最好,获得的工件抛光面型最优.
作者：李庆薄铁柱周东站刘畅蔡华
作者单位：中国建筑材料科学研究总院,北京100024
母体文献：2017年全国玻璃科学技术年会论文集
会议名称：2017年全国玻璃科学技术年会
会议时间：2017年8月27日
会议地点：秦皇岛
主办单位：中国硅酸盐学会
语种：chi
分类号：TH1TP2
关键词：行星式双面抛光 工艺优化 材料去除量均匀性
在线出版日期：2021年3月22日
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