热烧结和退火对ZnO薄膜场致发射特性的影响 - 第七届中国纳米科技(西安)研讨会.pdf

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2026-1-12 16:12 | 查看全部 阅读模式

会议论文《热烧结和退火对ZnO薄膜场致发射特性的影响》探讨了热烧结与退火工艺对ZnO薄膜场致发射性能的影响。研究通过实验分析不同热处理条件下的薄膜结构与电学特性,发现适当的退火可改善薄膜的结晶质量,从而提升其场致发射性能。该成果为优化ZnO薄膜在电子器件中的应用提供了理论依据。

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热烧结和退火对ZnO薄膜场致发射特性的影响 - 第七届中国纳米科技(西安)研讨会
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