2008年SAMPE中国国际先进材料与工艺技术展览暨研讨会上，会议论文《溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研究》探讨了通过溅射法制备Ni-Mn-Ga薄膜的工艺及其微观结构特性。研究分析了不同工艺参数对薄膜晶体结构、相组成和表面形貌的影响，为磁性形状记忆材料在智能器件中的应用提供了理论依据和技术支持。
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