会议论文《清洗刻蚀源的磁场分析》发表于第19届中国过程控制会议，探讨了在清洗刻蚀过程中磁场对工艺效果的影响。文章通过理论分析与实验验证，研究了不同磁场参数对刻蚀均匀性和效率的作用机制，为优化清洗工艺提供了科学依据和技术支持。
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