扫描型红外焦平面非均匀性校正 - 第19届中国过程控制会议.pdf

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2026-1-12 14:00 | 查看全部 阅读模式

会议论文《扫描型红外焦平面非均匀性校正》发表于第19届中国过程控制会议,探讨了红外成像系统中因探测器响应不一致导致的图像质量问题。文章提出了一种针对扫描型红外焦平面的非均匀性校正方法,有效提高了图像质量与检测精度。该研究对提升红外成像系统的性能具有重要意义,为相关领域的技术发展提供了理论支持和实践参考。

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扫描型红外焦平面非均匀性校正 - 第19届中国过程控制会议
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