多弧－中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

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2026-1-12 12:41 | 查看全部阅读模式

会议论文《多弧－中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能》探讨了采用多弧与中频磁控溅射技术制备Ti-Si-N薄膜的工艺及性能。研究分析了不同工艺参数对薄膜结构和硬度的影响，结果表明该复合涂层具有优异的耐磨性和热稳定性，适用于高性能工具和防护涂层领域。

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