会议论文《四唑负离子与脒正离子复合物稳定性的理论研究》发表于第19届中国过程控制会议，通过理论计算方法探讨了四唑负离子与脒正离子复合物的结构及稳定性。研究分析了不同构型下的相互作用能和电子分布，揭示了其稳定性的主要因素，为相关化合物的设计与应用提供了理论依据。
文档为pdf格式，0.35MB，总共6页。
举报
