面向高能带电粒子辐射的二维屏蔽设计 - 全国抗恶劣环境计算机第十九届学术年会.pdf

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2026-1-11 22:39 | 查看全部 阅读模式

会议论文《面向高能带电粒子辐射的二维屏蔽设计》发表于全国抗恶劣环境计算机第十九届学术年会,探讨了在高能带电粒子辐射环境下,如何通过二维结构优化实现有效屏蔽。该研究针对空间和核工业等极端环境中的设备防护需求,提出了一种新型屏蔽方案,提升了设备的抗辐射能力,具有重要的工程应用价值。

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面向高能带电粒子辐射的二维屏蔽设计 - 全国抗恶劣环境计算机第十九届学术年会
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