会议论文《硅基二氧化锡薄膜的制备与特性研究》发表于中国微米纳米技术学会第十一届学术年会。该文介绍了采用化学气相沉积法在硅基底上制备二氧化锡薄膜的过程，分析了不同工艺参数对薄膜结构和性能的影响。研究结果表明，所制备的薄膜具有良好的均匀性和稳定性，展现出优异的光电特性，为微电子与传感器领域提供了新的材料选择。
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