会议论文《溅射沉积AlN薄膜的光学性能研究》探讨了通过溅射法制备的AlN薄膜的光学特性。研究分析了不同工艺参数对薄膜折射率、透光率及光学带隙的影响，为AlN在光电子器件中的应用提供了理论依据。该成果对于优化薄膜制备工艺和提升器件性能具有重要意义。
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