快中子荧光屏理论建模、性能分析及加工工艺探索 - 第二届全国核技术及应用研究学术研讨会.pdf

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2026-1-11 17:34 | 查看全部 阅读模式

会议论文《快中子荧光屏理论建模、性能分析及加工工艺探索》发表于第二届全国核技术及应用研究学术研讨会。该文系统研究了快中子荧光屏的理论模型,分析了其在中子探测中的性能表现,并探讨了相关加工工艺的优化路径,为提升中子成像和探测技术提供了理论支持与实践参考。

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快中子荧光屏理论建模、性能分析及加工工艺探索 - 第二届全国核技术及应用研究学术研讨会
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