会议论文《任意位置矩形孔金属腔体电场屏蔽性能的研究》发表于第19届全国电磁兼容学术会议，主要探讨了不同位置的矩形孔对金属腔体电场屏蔽效果的影响。研究通过仿真与实验相结合的方法，分析了孔洞尺寸、位置及频率对屏蔽效能的影响规律，为提高电子设备的电磁兼容性提供了理论依据和技术参考。
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