会议论文《二氧化硅上自组装化学镀Ni-Mo-P阻挡层》介绍了在二氧化硅表面通过自组装技术制备Ni-Mo-P合金阻挡层的方法。该研究旨在提高材料的耐腐蚀性和界面稳定性，适用于电子器件和涂层技术。通过化学镀工艺，实现了均匀且致密的阻挡层沉积，为微电子领域提供了新的解决方案。
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