Gd5Ge4磁卡效应脉冲磁场研究 - 全国磁热效应材料和磁制冷技术学术研讨会.pdf

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2026-1-11 10:04 | 查看全部 阅读模式

会议论文《Gd5Ge4磁卡效应脉冲磁场研究》发表于全国磁热效应材料和磁制冷技术学术研讨会。该研究聚焦于Gd5Ge4材料在脉冲磁场下的磁卡效应,探讨其在磁制冷领域的应用潜力。通过实验分析,论文揭示了脉冲磁场对材料磁熵变的影响,为优化磁制冷系统提供了理论依据和技术支持。

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Gd5Ge4磁卡效应脉冲磁场研究 - 全国磁热效应材料和磁制冷技术学术研讨会
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