超厚铜(343 μm)PCB的制作工艺探讨 - 2010中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术_信息论坛.pdf

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2026-1-11 06:36 | 查看全部 阅读模式

会议论文《超厚铜(343 μm)PCB的制作工艺探讨》介绍了针对超厚铜层PCB的制造技术。文章分析了在343微米铜厚条件下,如何优化蚀刻、钻孔及电镀等关键工艺,以提高产品良率和可靠性。研究对高密度互连和高频应用中的PCB设计提供了重要参考。

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超厚铜(343 μm)PCB的制作工艺探讨 - 2010中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术_信息论坛
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