会议论文《超临界CO2微乳液对高浓度离子注入光刻胶的清洗》发表于第七届中国功能材料及其应用学术会议。该研究探讨了利用超临界CO2微乳液技术有效清洗高浓度离子注入后光刻胶的方法，具有环保、高效的特点，为半导体制造中的清洗工艺提供了新思路。
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