计算机模拟计算离子注入射程分布的研究 - 第七届中国功能材料及其应用学术会议.pdf

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2026-1-11 06:30 | 查看全部 阅读模式

会议论文《计算机模拟计算离子注入射程分布的研究》发表于第七届中国功能材料及其应用学术会议。该文探讨了利用计算机模拟技术研究离子注入过程中粒子的射程分布特性,旨在提高离子注入工艺的精度与效率。通过数值模拟方法,作者分析了不同参数对射程分布的影响,为半导体制造中的离子注入技术提供了理论支持与实践指导。

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计算机模拟计算离子注入射程分布的研究 - 第七届中国功能材料及其应用学术会议
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