会议论文《射频激发热丝化学气相沉积制备硅薄膜过程中光发射谱的研究》发表于第十一届中国光伏大会暨展览会。该研究通过分析光发射谱，探讨了在射频激发热丝化学气相沉积过程中硅薄膜的生长机制与等离子体特性，为优化薄膜制备工艺提供了理论依据和技术支持。
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