会议论文《低粗糙度CVD金刚石薄膜研究》探讨了化学气相沉积（CVD）法制备低粗糙度金刚石薄膜的技术进展。文章分析了工艺参数对薄膜表面形貌的影响，提出了优化沉积条件的方法，以提高薄膜质量与均匀性。研究对于提升金刚石薄膜在精密加工和光学领域的应用具有重要意义。
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