射频反应磁控溅射法制备ZnO_Al透明导电薄膜的光电性能 - 第十六届全国高技术陶瓷学术年会暨景德镇高技术陶瓷高层论坛.pdf

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2026-1-10 22:40 | 查看全部阅读模式

会议论文《射频反应磁控溅射法制备ZnO_Al透明导电薄膜的光电性能》介绍了通过射频反应磁控溅射技术制备ZnO-Al透明导电薄膜的方法。研究重点分析了该薄膜的光电性能，包括可见光透过率和电阻率等关键参数。文章为透明导电材料的开发提供了理论依据和技术支持，具有重要的应用价值。

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