会议论文《磁控溅射膜层发雾原因分析》发表于第八届华东三省一市真空学术交流会，主要探讨了磁控溅射过程中膜层出现发雾现象的原因。文章分析了工艺参数、气体环境及材料特性对膜层光学性能的影响，提出了改善发雾问题的对策，为提高薄膜质量提供了理论依据和技术支持。
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