一种新颖的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂 - 2013年全国非银盐先进影像技术和功能材料科学与应用研讨会.pdf

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2026-1-10 17:10 | 查看全部阅读模式

会议论文《一种新颖的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂》介绍了新型化学增幅型光致抗蚀剂的开发与应用。该研究针对i-线光刻技术，提出了一种具有高灵敏度和良好分辨率的正性光致抗蚀剂。通过优化化学结构和成膜性能，该材料在半导体制造中展现出良好的应用前景，为先进影像技术和功能材料的发展提供了新思路。

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